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產(chǎn)品
產(chǎn)品分類
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產(chǎn)品詳情
參數(shù)
一、應(yīng)用領(lǐng)域
該設(shè)備在同一真空室內(nèi)具有熱蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜功能，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積;可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜，亦可鍍鐵磁材料。
二、性能參數(shù)
1. 極限真空壓力：8×10-5 Pa;
2. 磁控靶：2只 靶直徑：Φ50，配電(氣)動(dòng)擋板;
3. 恢復(fù)真空抽氣時(shí)間(min)：<30;
4. 真空室：Φ500×550;
5. 蒸發(fā)電極： 2對(duì) 2KW 配電(氣)動(dòng)擋板;
6. 樣品臺(tái)：公自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)：2-20rpm可調(diào);
7. 偏壓、膜厚儀、薄膜規(guī)、樣品臺(tái)加熱可選;
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未找到相應(yīng)參數(shù)組，請(qǐng)于后臺(tái)屬性模板中添加
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多弧+磁控濺射復(fù)合鍍膜機(jī)
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電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)
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